フォトマスク
Photo Mask
エマルジョンガラスマスク
超高精度・高細密なパターンを再現
最新鋭のレーザーフォトプロッターにより、ご要望の回路パターンを描画したガラスマスク。 各種基板への、より高精細な回路形成にお役に立ちます。
- 寸法の安定性が高い
- 基材がガラスのため、寸法の安定性に優れ、寸法の管理も温度のみと容易です。
- 高い再現性と高解像度
- 「クロムガラス」に近い再現性と、業界トップクラスの解像度を併せ持つハイレゾリューションタイプ。L/S = 5μm/5μmを実現します。
- 万全なクリーン体制
- 工程内容により適切な清浄度管理ができる描画室。クリーンルームを完備。品質は万全です。
主な用途
- ICパッケージ
- 高精度フレキシブル
- エンコーダー
- LCD, FPC, COF, TAB
- BGA, CSP
- 高精度電子部品
高精度な清浄度管理ができるクリーンルーム内での高品質生産を実現
- お客様の仕様に対応
- ガラスサイズ、表面特殊加工など、お客様の仕様・条件に柔軟にお応えします。 データについても、Gerber、GDSII、DXFなど幅広く対応し、お客様のご要望にお応えできるように努めています。
- フレキシブルな生産対応・納期対応
- 柔軟な生産体制で、ご希望の納期にお応えします。
- 高精度フィルムマスク
- 高精度なフィルムマスクもレーザーフォトプロッタで作成可能です。
製品規格
| 対応サイズ | 28 inch × 32 inch (711.2 mm × 812.8 mm) |
|---|---|
| 基材厚み | 1.6 ~ 5.0 mm |
| 膜厚 | 5.0 ~ 6.0 μm |
| 透過率厚み | 5.0 mm 84% (I線 One line: 365 nm) |
| 膜質 | 銀塩ゼラチン乳剤 |
| 基材 | ソーダライムガラス |
製品仕様
| 品名 | ガラスマスク | フィルムマスク |
|---|---|---|
| 最小線幅 | 5.0 μm | 20 μm |
| 線幅精度 | ±2.0 μm | ±3.0 μm |
| 位置決め精度軸方向 | ±2.5 μm | ±20 μm ~ |
| 描画ドット径 | 3.0 μm | 3.0 μm |
| 走査ピッチ | 0.5 μm / 1.0 μm | 0.5 μm / 1.0 μm |
| 温度変化率 | 0.00085% | 0.00015% |
工程フロー
構造・断面図
| ① 保護層 | 保護層タイプのみ、約 0.3 ~ 1.0 μm マット剤を含む場合もあります。 |
|---|---|
| ② 乳剤層 | 約 5.0 ~ 6.0 μm 構成: ゼラチンとハロゲン銀粒子 |
| ③ ガラス支持体 | 1.6 ~ 5.0 μm |
取り扱いデータ
| データフォーマット | Gerber (RS274拡張含む), GDSII, DXF, DWG, illustrator 他 |
|---|---|
| 対応メディア | DVD, CD, MO, フラッシュメモリー及び各種メモリーカード |
| データ受渡し | E-mail, Miline (ADSL), メディア送付他 |